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???電子光學(xué)行業(yè)如大規模集成電路（LSI）、超大規模集成電路（VLSI）等微電子（IC）工廠(chǎng)；液晶顯示器（LCD）、彩色薄膜液晶顯示器（TFT-LCD）、等離子顯示器（PDP）以及發(fā)光二極管（LED）、有機電致發(fā)光顯示器（OLED）、高分子有機電致發(fā)光顯示器（PLED）等光電子工廠(chǎng)都離不開(kāi)潔凈的生產(chǎn)環(huán)境。生產(chǎn)所要求的環(huán)境不僅僅有：建筑圍護、結構、空氣、水、氣體以及溶劑等原材料，而且還有聲、光、電、磁、振等各種環(huán)境。例如：建筑的形式和層高、結構的承重、圍護結構的裝修材料；環(huán)境空氣的潔凈度、溫、濕度、壓力梯度、空氣中對工藝有害的化學(xué)分子；水和氣體的純度、粒子濃度、重金屬的含量以及環(huán)境的噪聲、照度、靜電、電磁屏蔽、微振等等。
● 凈：電子光學(xué)行業(yè)，尤其是微電子（IC）前工序和光電子（TFT-LCD）前工序的潔凈室對環(huán)境潔凈度的要求越來(lái)越凈。例如，12吋園片超大規模集成電路前工序光刻間的潔凈度要求高達1級（0.1μm）也就是每立方英尺空氣中≥0.1 μm的粒子數不能超過(guò)1顆,相當于ISO 1級。特別重要的是它對環(huán)境空氣提出了去除分子污染（SO2 , Nox , VOC ,NH3等）的要求。
?● 精：電子行業(yè)生產(chǎn)工藝對環(huán)境空氣溫、濕度的控制精度要求越來(lái)越精。還以上述微電子的光刻間為例：其溫度精度為±0.1℃，相對濕度的精度為±3%。
?● 純：大規模集成電路前工序對生產(chǎn)用的高純水、高純氣體以及高純溶劑的純度要求越來(lái)越純。例如：對高純水而言，不僅對其電阻率有要求，而且對高純水中所含粒子、細菌、重金屬以及其他元素的離子成份都有嚴格的要求，隨著(zhù)生產(chǎn)工藝的發(fā)展，對其純度的要求也越來(lái)越高?？芍^純之又純。
?● 嚴：電子工業(yè)生產(chǎn)不僅對環(huán)境的潔凈度，溫、濕度有嚴格的要求，同時(shí)對環(huán)境的聲（噪聲）、光（照度）、電（靜電）、磁（電磁場(chǎng)屏蔽）、振（微振）等都有嚴格的要求。尤其微電子生產(chǎn)，對環(huán)境的分子級污染提出了新的嚴格的要求。分子污染是指環(huán)境空氣中要嚴格控制例如鈉（Na）元素、碳（COx）元素、硫（SOx）元素、（NOx）元素等對半導體工藝有害的元素。因此在處理空氣時(shí)還要用淋水（淋自來(lái)水、淋純凈水）來(lái)吸收室外空氣中的有害分子成份和用化學(xué)過(guò)濾器來(lái)吸附新風(fēng)中的有害分子成份。
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1、深圳龍晶微電子科技有限公司（半導體材料）
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3、揭陽(yáng)中誠集團（單晶硅太陽(yáng)能）
4、三環(huán)集團（汽車(chē)電子）
5、天馬微電子股份有限公司（液晶顯示器）
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